ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm?405nm?365nm)を有効に活用できるように開発されており、長壽命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。

アークサイズが極めて點光源に近いため、光學(xué)系での光の集中?拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。

主な用途

半導(dǎo)體回路形成用光源
液晶パターン形成用光源
カラーフィルターパターン形成用光源
プリント基板回路形成用光源
MEMSパターン形成用光源
蛍光顕微鏡用光源
紫外線硬化用光源
その他新規(guī)露光用途
など