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【新品上市】 UV照射裝置HMW-615N-4

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標(biāo)題01

這是一種非接觸裝置,在半導(dǎo)體制造工序、液晶基板制造工序等微細(xì)圖案形成工序中,對(duì)基板表面殘留的有機(jī)物照射UV,去除有機(jī)污染物。可以在不損壞基材的情況下清潔和修飾表面。

標(biāo)題01
  • 配備獨(dú)特的低壓紫外燈,對(duì)基材損傷小,分解有機(jī)物能力強(qiáng)。
  • 通過(guò)使用振動(dòng)基板的方式,使UV光均勻地照射基板。
  • 基材不會(huì)升溫太多。
  • 可以應(yīng)用消除臭氧的照射方法和清除氮?dú)獾恼丈浞椒ā?/font>
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產(chǎn)品規(guī)格

規(guī)格

型式 HMW-615N-4
二手燈 低壓紫外線(xiàn)燈
VUV-100/A-5.3U 7燈
照射距離 25毫米
照射面積 400寬×400深
照射時(shí)間 任意(最大99分59秒)
廢氣臭氧去除 使用臭氧分解過(guò)濾器
外形尺寸 700(寬)×800(深)×1447(高)