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曝光設(shè)備原理

本節(jié)介紹曝光設(shè)備的測量原理。曝光設(shè)備由光源、偏轉(zhuǎn)透鏡、光掩模、聚光透鏡、載物臺、傳送硅片的機器人等組成。

鏡頭和光掩模的設(shè)計精度極高，平臺的運行精度也很高。在操作過程中，載物臺精確固定要曝光的物體。

在操作中，每次曝光時載物臺都會移動，在曝光的物體上呈現(xiàn)多個圖案。

從光源發(fā)出的短波長強光被偏光透鏡引導(dǎo)并照射到光掩模上，光掩模是構(gòu)建電路圖案的原型。

光線穿過光掩模后，被聚光透鏡聚焦，在曝光目標(biāo)上描繪出非常小的電路圖案。

一旦整個曝光目標(biāo)被曝光，則由機器人等傳送它。

根據(jù)產(chǎn)品的不同，也有將曝光對象浸沒在液體中的產(chǎn)品，也有設(shè)計可以進(jìn)行更高精度曝光的產(chǎn)品。