什么是曝光設備？

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光刻設備用于半導體和液晶顯示器的制造現(xiàn)場，通過照射光在基板上繪制電路和像素等圖案。

除了使用極強的光線外，還需要對舞臺等進行精確的控制，因此很多產(chǎn)品體積龐大，成本動輒上億。

曝光工藝是非常重要的設備，因為它決定了半導體和液晶顯示器制造中設計數(shù)據(jù)（?CAD數(shù)據(jù)）的圖案。

不同的公司已經(jīng)開發(fā)了各種曝光方法并應用于設備中。

曝光設備的使用

曝光設備主要用于半導體制造現(xiàn)場和包括液晶顯示器在內(nèi)的平板顯示器(FPD)制造現(xiàn)場。

在半導體制造工藝中，以硅晶片為基板，形成氧化膜等后，涂敷光致抗蝕劑（感光材料），通過曝光裝置向涂敷面照射強紫外光。

由此，能夠通過蝕刻等除去不需要的部分。這種使用曝光設備的方法稱為光刻法。

在LCD制造過程中，一般采用玻璃基板，并重復金屬薄膜沉積、光刻和蝕刻的多個循環(huán)。

濾色器可以通過將像素電極和開關元件(TFT元件等)布置在一個基板上并且將三基色光(紅、綠和藍)布置在另一基板上來形成。

通過將兩個基板粘合在一起并在它們之間放置液晶材料，就完成了液晶顯示器的面板。

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選擇曝光設備時，有必要在購買前與設備制造商充分討論曝光所用光源的類型和精度、載物臺的精度等，因為它們非常昂貴。

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